タンタルシート
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タンタル スパッタリング ターゲット – ディスク
タンタル スパッタリング ターゲットは、主に半導体産業および光学コーティング産業に適用されます。真空EB炉製錬法により、半導体業界、光学業界のお客様のご要望に応じて、様々な仕様のタンタルスパッタリングターゲットを製作しております。独自の圧延工程を慎重に行い、複雑な処理と正確なアニール温度と時間により、ディスクターゲット、長方形ターゲット、回転ターゲットなど、さまざまな寸法のタンタルスパッタリングターゲットを製造しています。さらに、タンタルの純度が 99.95% ～ 99.99% 以上であることを保証します。粒度は100um以下、平面度は0.2mm以下、表面は
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タンタル シート (Ta) 99.95%-99.99%
タンタル (Ta) シートはタンタル インゴットから作られています。当社はタンタル (Ta) シートのグローバル サプライヤーであり、カスタマイズされたタンタル製品を提供できます。タンタル (Ta) シートは、冷間加工プロセス、鍛造、圧延、スエージング、および引き抜きにより、目的のサイズに製造されます。
